13721606761
產品簡介
高溫立式管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。
爐體：雙層風冷 / 水冷爐殼，外殼溫度＜60℃，安全防燙；爐膛采用高純氧化鋁纖維，輕質保溫、蓄熱少。
爐管（核心）：垂直貫穿爐膛，兩端密封法蘭，材質按需選：
石英管：≤1200℃，透明可視、化學惰性；
剛玉管（99 氧化鋁）：1300–1600℃，耐高溫、耐酸堿；
不銹鋼管：≤1000℃，適用于氫氣還原、金屬退火。
加熱系統：加熱元件分溫區布置：
鐵鉻鋁絲：≤1100℃；
硅碳棒：1200–1300℃（通用）；
硅鉬棒：1500–1650℃（高溫型）；
支持單 / 雙 / 三溫區獨立控溫，溫場均勻性 ±1–5℃。
溫控系統：觸屏 PID 程序控制，精度 ±1℃，支持 30–50 段升降溫曲線；具備超溫、斷偶、漏電、氣壓超限報警，可電腦聯機導出數據。
氣路 / 真空系統：KF 密封法蘭，標配浮子流量計、壓力表、進出氣閥；可選機械泵（低真空 - 0.1MPa）、分子泵（高真空 10?3Pa）、混氣柜、防爆模塊（通 H?）。
安全防護：開門斷電、超溫報警、壓力保護、漏電保護，全程安全聯鎖。
溫場均勻：垂直結構減少熱對流干擾，溫差小，適合精密工藝。
空間高效：立式占地小，適配實驗室與緊湊生產線。
能效更優：熱量向上聚集，熱損失少，空載能耗比臥式低 10%–15%。
工藝適配強：可通氣氛 / 抽真空，兼容 CVD、晶體生長、粉體處理等特殊工藝。
操作便捷：頂部裝樣、底部出料，適配環狀 / 片狀 / 扁平工件擺放。
額定溫度：1000℃/1200℃/1600℃/1800℃（可選）。
控溫精度：±1℃，溫區均勻性 ±1–5℃。
升溫速率：10–30℃/min（推薦≤10℃/min，防熱沖擊）。
爐管規格：直徑 φ25–φ200mm，長度 500–2000mm（可定制）。
真空度：低真空 - 0.1MPa，高真空 10?3–10??Pa。
氣氛類型：空氣、Ar、N?、H?、O?、CH?等。
當前位置：
上一個：
返回列表
電爐
